Комплексные услуги инжиниринга и поставки высокотехнологичного оборудования, программного обеспечения и материалов для промышленных предприятий, лабораторий, исследовательских центров и образовательных учреждений.
Наименование: NS линия NS 8S1600U
Производственная линия NS 8S1600U – это наш базовый модуль для производства нановолокон в промышленном масштабе. Это оборудование разработано для удобства эксплуатации, масшстабируемости, модульности и универсальности при производстве нановолокон высшего качества. 4 модуля NS 8S1600U могут быть объединены в производственную линию, которая способна производить десятки миллионов квадратных метров нановолокнистого материала в год.
Задать вопрос

Система

Производственная линия NS 8S1600U – это наш базовый модуль для производства нановолокон в промышленном масштабе. Это оборудование разработано для удобства эксплуатации, масшстабируемости, модульности и универсальности при производстве нановолокон высшего качества. 4 модуля NS 8S1600U могут быть объединены в производственную линию, которая способна производить десятки миллионов квадратных метров нановолокнистого материала в год.

Универсальность

Оборудование Elmarco разработано для электроформования разнообразных полимеров и для получения органических и биоразлагаемых нановолокон. В зависимости от используемого полимера, диаметр получаемых волокон может находиться в диапазоне от 80 нм до 700 нм (+/- 30%). Производственная линия NS 8S1600U приспособлена к работе с различными типами подложек.

4-149-1-ns-8s1600u-profile-160530-72dpi Размер: 382.8 Кб

Основные особенности/Параметры

NS 8S1600U
Кол-во формующих электродов: 8
Макс. кол-во модулей в линии: 4
Ширина формующего электрода: 1600 мм
Ширина нановолокнистого слоя: 1600 мм
Вытяжка:1) 2500 м3
Расстояние ЭФВ: 150 - 250 мм

Эксплуатационные параметры

Обслуживающий персонал: 1,5
Линейная скорость: 0,2 - 40,0 м/мин
Температура рабочего воздуха: 20 - 30°C
Отн. влажность рабочего воздуха: 20 - 40%
Время подготовки: до 20 мин
Регулярное техобслуживание:2) 15 ч/месяц

1) включая дополнительное оборудование
2) зависит от процесса

Вернуться к списку